صنعت نیمه‌رساناها با چالش‌های جدیدی روبرو است که نیازمند روش‌های پیشرفته‌ای برای توسعه تراشه‌های پرقدرت‌تر است. همکاری بین شرکت ASML و مرکز تحقیقاتی پیشرفته Imec یکی از آخرین تلاش‌ها در این زمینه است که نوید تحولات بزرگی را در فناوری لیتوگرافی می‌دهد.

همکاری‌های فناورانه برای لیتوگرافی زیر ۲ نانومتر

شرکت ASML و Imec توافق کردند همکاری پنج‌ساله‌ای را آغاز کنند که هدف اصلی آن توسعه فناوری‌های پردازشی زیر ۲ نانومتر است. این همکاری شامل استفاده از تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی High-NA، ابزارهای اندازه‌گیری نوری و سیستم‌های پیشرفته بازرسی می‌شود. این فناوری‌ها به‌صورت گسترده در تأسیسات تحقیقاتی Imec در بلژیک مورد استفاده قرار خواهند گرفت.

دسترسی به تجهیزات پیشرفته برای پشتیبانی از تحقیقات

Imec دسترسی کامل به محصولات پیشرفته ASML از جمله سیستم‌های لیتوگرافی Twinscan NXT (DUV)، Twinscan NXE (EUV با دیافراگم ۰.۳۳) و Twinscan EXE (High-NA EUV با دیافراگم ۰.۵۵) خواهد داشت. این تجهیزات به‌منظور کمک به محققان برای دستیابی به دقت موردنیاز در لیتوگرافی زیر ۲ نانومتر طراحی شده‌اند. در واقع، فناوری نوآورانه High-NA EUV تنها ابزار موجود است که توانایی ایجاد وضوح ۸ نانومتر با یک بار تابش را دارد.

حمایت مالی و توسعه پایدار در صنعت نیمه‌رسانا

این همکاری بخشی از پروژه Next Gen-7A (IPCEI22201) است که از سوی دولت هلند و در چهارچوب پروژه‌های مشترک اروپایی (IPCEI) پشتیبانی می‌شود. هدف این پروژه، ایجاد تحولی اساسی در توسعه پایدار و پیشرفته صنعت نیمه‌رسانا است. تجهیزات مورد استفاده در تأسیسات Imec همچنین به پیشبرد پروژه NanoIC اتحادیه اروپا کمک خواهند کرد.

گسترش دامنه همکاری‌ها

پروژه‌های تحقیقاتی این دو نهاد تنها به لیتوگرافی زیر ۲ نانومتر محدود نمی‌شود. از جمله حوزه‌های دیگر همکاری می‌توان به فناوری DRAM، فوتونیک سیلیکونی و بسته‌بندی پیشرفته اشاره کرد. این مشارکت نه‌تنها باعث افزایش سرعت تحقیق و توسعه در فناوری نیمه‌رسانا می‌شود، بلکه پاسخ‌گوی نیازهای فناوری‌های آینده نیز خواهد بود.

نتیجه‌گیری

توافق‌نامه همکاری میان ASML و Imec نقطه عطفی در توسعه تراشه‌های نسل جدید به حساب می‌آید. با دسترسی به تجهیزات پیشرفته و پشتیبانی مالی مناسب، این دو مؤسسه قادر خواهند بود به ارتقای سطح فناوری پرداخته و در صنعت نیمه‌رسانا انقلابی ایجاد کنند. انتظار می‌رود پیشرفت‌های حاصل از این همکاری اثرات بلندمدتی بر فناوری جهانی داشته باشد.